Китай создаст собственные системы литографии для чипов к 2030 году

Глава NVIDIA Дженсен Хуан оценил сроки появления в Китае собственных систем литографии для производства современных чипов. По его мнению, китайские компании создадут такие установки к 2030 году.

На саммите All-In Хуан заявил, что как только технологии достигнут зрелости, Китай задействует свои мощности по массовому производству, чтобы интегрировать оборудование в локальные заводы по выпуску полупроводников.

Оценка Хуана контрастирует с позицией Франка Ромунда, руководителя Zeiss Semiconductor. Ранее он заявил, что разработка китайского EUV-литографа (экстремальный ультрафиолет) может занять около 15 лет.

Разница в прогнозах обусловлена предметом обсуждения: Ромунд говорит конкретно об EUV-технологии, в то время как Хуан использует термин "передовые системы литографии". В эту категорию входят и DUV-установки (глубокий ультрафиолет), которые сохранят коммерческую значимость и актуальность даже при наличии EUV, так как эти технологии представляют разные производственные экосистемы.

Сейчас монополия на поставку EUV-систем принадлежит ASML, что делает компанию главным рычагом давления США и Европы на китайский техсектор. Смещение сроков или появление альтернативных систем к 2030 году изменит зависимость Китая от западного оборудования и его позицию в цепочке поставок компонентов.