Российские учёные приблизились к созданию литографов нового поколения — ключевого инструмента в производстве микрочипов. Всё благодаря уникальной установке, способной генерировать непрерывный терагерцевый лазерный разряд. Под её воздействием удалось получить плотную и стабильную плазму, излучающую экстремальный ультрафиолет — то, что нужно для построения самых мелких элементов на микросхемах.
Всё дело в квазистационарной плазме — стабильном и мощном источнике энергии, параметры которого уже сегодня подходят для практического применения. Как отметил Виталий Кубарев, сотрудник Института ядерной физики СО РАН:
"Нет сомнений в практической полезности такого источника для развития отечественной микроэлектроники. Благодаря новшествам по ограничению объёма плазмы и её стабилизации нам удалось получить квазистационарную плазму. В этом состоянии её поддерживает импульсно-периодическое излучение. Параметры плотности плазмы и её размер достаточны".
Следующий шаг — увеличить мощность в 2-4 раза. Для этого будет модернизирован Новосибирский лазер на свободных электронах — один из самых мощных источников терагерцового излучения. В качестве рабочего газа планируется использовать ксенон, а сами установки сделают компактнее и эффективнее.
Их смогут размещать даже в космосе: новая технология создаёт плазму в виде узкого волнового пучка, что открывает массу перспектив для точечного применения и передачи энергии на расстояние.
Микроэлектроника сегодня — это борьба за нанометры. Чем мельче элементы микросхемы, тем выше её производительность. Но для создания таких структур нужны источники экстремального ультрафиолета.
Новая российская разработка может стать основой именно таких источников, обеспечив технологическую независимость и переход на новый уровень.
Пла́зма (от греч. πλάσμα "вылепленное, оформленное") — ионизированный газ, одно из четырёх классических агрегатных состояний вещества.